光束勻化在熒光成像平場照明中的應用

光束勻化在熒光成像平場照明中的應用

熒光顯微鏡

熒光顯微鏡屬于光學顯微鏡家族，基于熒光的物理效應。利用了所謂的熒光染料的顏色特性，它們被特定波長的光激發，并以不同的波長再次反射吸收的光。

熒光顯微鏡的應用

熒光顯微鏡可以進行形態學研究、納米范圍內的測量值分析以及實時可見的大多數不同文化的過程。無論是在生物化學、生物物理學還是醫學領域：快速、詳細地檢測明亮、多彩的熒光有助于熒光顯微鏡的測量過程，并為新發現奠定基礎。zui 佳測量結果和zui 佳分辨率需要zui精確的光學器件——無論是通過光束路徑的優化和聚焦、精確安裝的濾光片還是高質量的鍍膜。

熒光顯微鏡的結構和功能原理

允許個別波長通過的特殊濾光片可確保熒光顯微鏡下熒光的可視化。熒光顯微鏡的特殊濾光片包括：

勵磁濾光器

發射過濾器

二向色分束器

單獨的激發濾光片允許相應波長的光通過，這是激發待檢樣品中特定染料所必需的。二向色鏡將刺激波長反射到物鏡，物鏡將光束集中到標本上。從標本反 射的光集中在物鏡中，在其激發態通常具有比入射光更高的波長。通過二向色鏡，反射光通過發射濾光片并降低到發射波長。尚未在二向色鏡處停止的刺激光的殘留物在發射濾光片處被過濾掉。理想情況下，只有發射光撞擊顯微鏡內置的檢測器，并以相應的顏色可見。zui 佳測量結果需要均勻的照明，尤其是當需要幾微米或幾毫米的大視野時。在不均勻照明的情況下，例如，可能發生待檢查分子的不均勻激活。結果：中心的分子比入射照明光束外圍的分子發出更強烈的熒光。如果周邊沒有與中心等同地照亮，則當單獨記錄的圖像網格稍后合并時，陰影繼續出現。因此，細胞和組織樣本等測量不能用于可靠的分析。這些問題可以通過使用 a|TopShape a|BeamExpander 來解決。通過使用非球面可以實現這些元素在系統中。我們的系統以其緊湊的設計、精度和zui高的光學質量而令人信服。使用光學組件a|TopShape 和 a|BeamExpander 可以將高斯光束轉換為均勻的平頂輪廓，從而在整個視野中實現均勻照明。所產生的平場照明具有高空間相干性、wu與倫bi的光學性能和 > 95% 的高均勻性。分子的均勻激發和zui小的圖像重疊 (5%) 可以保證讓您wan全滿意。

下圖顯示了熒光顯微鏡的工作原理和一般結構。

熒光顯微鏡的工作原理

熒光顯微鏡應用

基于激光的熒光顯微鏡內的定量分析可能會因高斯光束輪廓產生的不均勻 照明而變得復雜。光源和照明光學等因素會影響均勻性。當要檢查大視野 (FOV)時，這些功能尤其具有挑戰性。測量圖像由圖像網格在熒光顯微鏡中生成。以邊緣重疊的方式獲取單個圖像，并且可以在后處理中組合它們。如果照明不均勻，zui終圖像的每個單獨圖像周圍都會有變暗的邊緣 - 細胞和組織樣本的測量變得不可靠。光照不均勻的另一個缺點：分子激活不均勻。那些靠近光束中心的熒光比邊緣的熒光更多。位于奧蘭多的中佛羅里達大學光學與光子學院的一個研究團隊通過將aphericon 的光束整形器 a|TopShape 和 a|BeamExpander 集成到顯微鏡裝置中，從而克服了這些問題。平場照明 (FFI) 設置將高斯光束塑造成統一的平頂輪廓。a|TopShape 對入射激光束大小的變化具有ji高的容忍度 (± 10 %)，并且以消色差方式運行。非常好的光學性能（均勻性 > 95%）可實現均勻照明，從而激活分子。此外，FFI 設置可實現無邊界拼接成像，圖像重疊zui小 (5%)。

定量熒光成像的平場照明

項目介紹：

高斯輪廓的不均勻光照使得基于激光的寬視場熒光顯微鏡的定量分析具有很高的挑戰性。許多因素，包括光源和照明光學有助于均勻性。當需要幾百微米或毫米尺度的大視場時，這些特性尤其困難。獲得一個圖像網格，使邊界重疊，并在后處理中將圖像拼接在一起。如果光照不均勻，zui終拼接的圖像在每個單獨的圖像周圍都有暗淡的邊界。因此，細胞和組織樣本的測量是不可靠的。非均勻光照的另一個缺點是分子的不均勻激活。那些zui靠近光束中心的人比那些靠近邊緣的人熒光更強烈。

項目實施：

來自美國佛羅里達州奧蘭多市中佛羅里達大學光學與光子學學院的一個研究團隊，在他們的顯微鏡設置中使用非球面 TopShape 和 BeamExpander 時，可以克服這些問題(b)，這兩個都是由非球面組成的非常緊湊和高精度的折光光學組件。因此，他們能夠呈現平場照明(FFI)，其中高斯光束被塑造成一個均勻的平頂輪廓(a)。光束整形裝置非常容忍入射激光束的大小變化，接受±10%，同時也是消色差的(e)。FFI 的工作距離(f)長，空間相干性高，可以在多色單分子成像中實現均勻的 epi1 和 TIRF2 照明。所使用的光學器件具有吳與倫bi的光學性能，均勻性> 95%，允許均勻的照明(c & d)，從而均勻地激活分子。此外，FFI 實現了zui小圖像重疊(5%)的無界縫合成像。

說明: 1,外延照明模式是指從樣品的一側進行照明和檢測;

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